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LITHIUS™轨道设备通过模块与搬送组织光刻胶处理，平台有200及300mm晶圆版本。胶膜工艺、计量和数据能力按实际选件匹配，可用于已有同型号流程的设备配套。
TEL LITHIUS在CLEAN TRACK家族中承接ACT系列技术，平台强调工艺扩展、处理周期及网络化控制。
实际配方需要把胶膜制备、烘烤、冷却及显影串联起来。原厂介绍的计量和数据分析能力，为相关配置提供过程信息，曝光机接口则决定外部工序的衔接方式。
我们提供二手LITHIUS机台信息，可结合所需晶圆规格和光刻胶流程匹配模块。
TEL LITHIUS™涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 制造商 | Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS™ |
| 原厂平台晶圆 | 200、300mm |
| 平台设计 | 工艺响应、周期及网络化能力 |
| 配套信息 | 原厂列有集成计量与Ingenio™相关平台功能 |
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