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TEL NT333通过旋转载台和分隔反应区完成空间ALD，每转一周形成一个循环。300mm平台单腔可处理6片晶圆，兼顾膜厚控制、覆盖能力与多片处理效率。
NT333将ALD的不同反应步骤分隔在不同区域，晶圆随载台旋转，依次经过相应气体环境。载台每转一周完成一个ALD循环，这种空间ALD方式把循环组织从单纯的时间切换转为区域与运动的配合。
TEL NT333™核心数据
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 品牌型号 | TEL NT333™ |
| 晶圆尺寸 | 300mm |
| 工艺组织 | 空间ALD、旋转载台 |
| 循环关系 | 载台每转一周完成一个ALD循环 |
| 原厂腔室结构 | 2腔，每腔6片，系统共12片 |
| 反应配置 | 热反应／等离子体 |
| 工艺方向 | SiO₂、SiN、高k薄膜 |
旋转载台上的多片沉积
单个腔室可容纳6片300mm晶圆，原厂双腔结构合计12片。多片晶圆在旋转中完成重复反应，既保持ALD的膜厚控制方式，也提高单位循环内的处理片数。
平台包含热反应和等离子体配置，覆盖SiO₂、SiN及高k薄膜方向。等离子体屏蔽结构着重减轻损伤，工艺还可将前后处理步骤纳入循环，并调节薄膜应力。
NT333适合从覆盖、膜质和处理效率共同理解。其多片空间ALD结构与立式炉的大批处理不同，也不等同于传统单片时间分隔ALD。
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