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LITHIUS Pro™ Z扩展先进浸没式、多重图形化及EUV工艺配套，详细产品页介绍300mm平台。自动监测、低颗粒搬送和灵活模块组合共同服务胶膜质量及生产效率。
Pro Z把缺陷控制、生产效率及化学品使用成本同时纳入平台改进。它延续LITHIUS Pro产品基础，增加对先进光刻流程的适配能力。
详细产品页介绍300mm机型，应用方向包括先进浸没式、双重或多重图形化及EUV。不同流程对应的胶材、温控及显影模块不同，具体工艺能力需要落实到配置。
自动监测帮助跟踪设备状态，低颗粒晶圆传送则服务缺陷管理。对二手Pro Z，重点应放在完整工艺模块、监测功能和曝光机接口，而非仅看Z后缀。
TEL LITHIUS Pro™ Z涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 品牌 | Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ Z |
| 详细产品页晶圆 | 300mm；总目录另有200/300mm表述，须核对 |
| 工艺方向 | 浸没式、多重图形化及EUV相关配置 |
| 平台设计 | 缺陷控制、生产效率及化学品成本 |
| 控制功能 | 自动监测与灵活模块组合 |
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