早上好 欢迎来到广东芯灵实业有限公司官方网站！
芯灵，为贴片机而生
贴片机一站式解决方案引领者
0755-3317750224小时全球咨询热线电话
早上好 欢迎来到广东芯灵实业有限公司官方网站！
贴片机一站式解决方案引领者
0755-3317750224小时全球咨询热线电话
低温薄膜生长与批式处理在TELINDY PLUS IRad平台结合。设备通过等离子辅助ALD制备氮化硅、氧化硅等薄膜，原厂最大批量125片，强调温度、膜质及损伤控制。
先进器件对温度的限制，使传统热反应工艺需要寻找新的低温路径。TELINDY PLUS IRad将等离子体源集成到300mm批式平台，以等离子辅助ALD支持氮化硅、氧化硅等薄膜生长。
TEL TELINDY PLUS™ IRad™核心数据
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 品牌型号 | TEL TELINDY PLUS™ IRad™ |
| 晶圆尺寸 | 300mm |
| 平台类型 | 等离子辅助批式ALD |
| 原厂最大装载 | 125片 |
| 主要工艺方向 | 低温ALD SiN、SiO₂ |
| 反应环境管理 | 等离子体控制、干气清洗 |
批处理结构中的反应活化
晶圆仍按批次处理，等离子体则参与膜层形成过程，扩展原有热平台的低温工艺空间。反应活性、膜质与器件损伤需要同时管理，因此设备不仅增加等离子体源，也配套相应控制与清洗设计。
原厂最大批容量为125片，批式装载配合相应工艺运行。原位干气清洗帮助维持反应环境，减少沉积残留对后续批次的影响。对于低温介质膜需求，IRad的价值在于将ALD反应能力与批式处理规模结合。
联系我们
联系地址：深圳市宝安区新桥街道上寮社区上南上寮工业路18号汇聚新桥107创智园B座B201 咨询电话：17727597261 潘小姐 销售热线：0755-33177502电子邮箱：smt-sales3@gdxinling.cn
芯灵，为贴片机而生
贴片机一站式解决方案引领者
扫一扫 关注我们
扫码加微信咨询