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LITHIUS™ i+服务浸没式光刻配套，相关涂层、清洗干燥和显影步骤需与胶材及曝光机匹配。TEL平台保留i+完整后缀，具体晶圆与模块能力按独立机台资料核对。
浸没式曝光需要轨道设备对胶膜和曝光前后处理作相应配套。LITHIUS i+围绕这一应用方向组织工艺，具体模块需要与光刻胶、相关涂层及曝光机共同匹配。
处理流程可能涉及保护涂层及对应去除、清洗干燥和显影，是否具备每项功能需看已装单元。不能将一个浸没式应用实例的全部配置视为所有i+机台标配。
我们单列二手LITHIUS i+，可按原有曝光机接口及完整工艺清单匹配设备。
TEL LITHIUS™ i+涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 品牌 | Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS™ i+ |
| 原厂列示 | 与LITHIUS共同介绍 |
| 公开应用方向 | 浸没式光刻配套 |
| 工艺内容 | 光刻胶及相关涂层、温度与显影流程按模块 |
| 配置核对 | 晶圆、清洗干燥、接口及软件分别确认 |
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