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LITHIUS Pro™ V对应300mm晶圆,在Pro基础上强化处理效率和空间利用。工艺配置可服务浸没式及双重图形化流程,实际能力需与所装涂胶、温控及显影模块对应。
Pro V把300mm轨道设备的处理效率与空间利用作为设计重点。它延续Pro平台概念,通过工艺模块和晶圆搬送衔接连续处理。
双重图形化会增加胶膜处理和温度步骤的组合,对设备节拍提出要求。相应配置下,Pro V可配合这些流程及浸没式光刻应用。
机台实际日处理能力受配方、模块数和曝光机节拍共同影响。选型应落实目标工艺,而不将官网比较表中的产能当作所有二手Pro V统一保证值。
TEL LITHIUS Pro™ V涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 制造商 | Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V |
| 晶圆 | 原厂平台列300mm |
| 发展基础 | LITHIUS Pro平台 |
| 工艺方向 | 相应配置下的浸没式及双重图形化 |
| 设计关注 | 日处理能力、空间效率及设备综合效率 |

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