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TEL LITHIUS Pro™ V涂胶显影机

TEL LITHIUS Pro™ V涂胶显影机

LITHIUS Pro™ V对应300mm晶圆,在Pro基础上强化处理效率和空间利用。工艺配置可服务浸没式及双重图形化流程,实际能力需与所装涂胶、温控及显影模块对应。

产品详情

Pro V把300mm轨道设备的处理效率与空间利用作为设计重点。它延续Pro平台概念,通过工艺模块和晶圆搬送衔接连续处理。

双重图形化会增加胶膜处理和温度步骤的组合,对设备节拍提出要求。相应配置下,Pro V可配合这些流程及浸没式光刻应用。

机台实际日处理能力受配方、模块数和曝光机节拍共同影响。选型应落实目标工艺,而不将官网比较表中的产能当作所有二手Pro V统一保证值。

TEL LITHIUS Pro™ V涂胶显影机核心信息

项目产品信息
制造商Tokyo Electron
型号CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V
晶圆原厂平台列300mm
发展基础LITHIUS Pro平台
工艺方向相应配置下的浸没式及双重图形化
设计关注日处理能力、空间效率及设备综合效率
TEL LITHIUS Pro™ V涂胶显影机外观

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