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TEL LITHIUS Pro通过紧凑布局和搬送改进提升轨道处理效率，工艺模块可配合浸没式光刻。平台支持相应计量控制，已有Pro流程的产线可按晶圆版本和模块匹配。
在光刻胶处理节拍中，晶圆搬送和等待同样影响产出。LITHIUS Pro对布局与传送进行改进，让涂胶、温度处理和显影更紧密衔接。
平台的浸没式相关模块及集成计量，为不同曝光配套和工艺控制提供扩展。具体功能需对应机台所装单元，不能只从Pro名称推断全套配置。
我们提供二手LITHIUS Pro机型信息，按原有晶圆规格及曝光机接口匹配。
TEL LITHIUS Pro™涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 制造商 | Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ |
| 平台晶圆版本 | 原厂产品表列200、300mm |
| 设计方向 | 提高搬送效率、缩小占地 |
| 工艺能力 | 相应模块下的浸没式光刻配套 |
| 过程控制 | 集成计量及工艺控制配置 |
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