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TEL Pro DICE™将300mm涂胶显影、缺陷控制和数据能力结合,支持先进EUV及DUV流程。产品重点在细微图形化的涂膜质量与设备可用性,库存与供货状态另行核实。
300mm晶圆的先进图形化需要同时管理胶膜缺陷与设备节拍。LITHIUS Pro DICE把两者纳入同一平台设计,并增强数据采集及信息处理。
其工艺覆盖方向包含High NA EUV和DUV,延续Pro Z的平台概念。设备通过更完善的缺陷控制与工艺模块服务先进逻辑和存储器制造。
本项提供产品技术介绍。若咨询二手或翻新设备,应先核实实际可供机台、完整型号和原厂支持范围,再对应具体工艺配置。
TEL LITHIUS Pro DICE™涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 制造商 | Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro DICE™ |
| 晶圆 | 300mm |
| 工艺方向 | High NA EUV至DUV |
| 平台重点 | 涂膜缺陷控制、生产效率及数据处理 |

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