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半导体设备与配件

TEL ACT™12 SOD旋涂介质膜设备

TEL ACT™12 SOD旋涂介质膜设备

TEL ACT™12 SOD旋涂介质膜设备 ACT™12 SOD旋涂介质膜设备

产品详情

ACT12 SOD的工艺对象是旋涂介质材料。机台将涂布、烘烤和固化连接起来,形成低介电膜所需的处理路径。

不同有机、无机、混合和多孔材料需要专用单元匹配供液及热处理条件。平台的低氧高温热板可完成相应在线固化,减少流程对独立炉管的依赖。

材料与气氛配套

选择这款设备时,应明确目标SOD材料、溶剂和固化要求。供液通路、排气、热板及低氧环境需要协同配置,不能把普通ACT12光刻胶配方直接视作SOD固化工艺。

TEL ACT™12 SOD旋涂介质膜设备核心信息


项目产品信息
制造商Tokyo Electron
型号CLEAN TRACK™ ACT™12 SOD
设备类别旋涂介质膜处理设备
平台晶圆版本200、300mm
处理内容涂布、烘烤、固化
材料类型有机、无机、混合及多孔介质材料,按专用单元
热处理低氧环境高温热板,可实现相应在线固化

ACT12 SOD旋涂介质膜设备


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