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ACT™12原厂平台覆盖200、300mm晶圆，可与曝光机联机组织光刻胶处理。化学过滤和精密温控单元支持DUV工艺，模块与搬送配置共同影响实际处理节拍。
ACT12通过联机搬送连接涂胶显影与曝光工序。晶圆在轨道设备中完成胶膜制备及温度处理，曝光后回到对应显影单元，按配方继续处理。
平台有200、300mm晶圆版本。化学过滤和精密温控参与DUV工艺配套，机械搬送与模块布局则影响处理衔接和设备占地。
本条作为ACT12独立产品项保留。我们提供二手机型配套，涂胶杯、显影单元及接口需与既有晶圆和曝光流程对应。
TEL ACT™12涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 品牌 | TEL / Tokyo Electron |
| 型号 | CLEAN TRACK™ ACT™12 |
| 平台晶圆版本 | 200、300mm |
| 联机能力 | 可与曝光设备衔接 |
| 工艺配套 | 涂胶、显影、化学过滤及精密温控 |
| 版本区分 | ACT12与ACT12 SOD单独匹配 |
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