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TEL MARK 8有涂胶、显影及不同Block组合的机台记录，晶圆版本和模块数量需分别匹配。工艺单元与搬送配置共同组织曝光前后处理，可供已有MARK 8配方的产线选配。
MARK 8在二手设备中可见单Block和多Block布局，也有单独涂胶、单独显影及两者组合的配置。型号相同并不表示模块清单相同。
工艺Block容纳旋涂、显影、热板和冷却等单元，搬送部分将晶圆按配方送入相应位置。曝光机接口与独立运行配置也会影响现场衔接。
公开机台记录包含150mm、200mm版本。选择MARK 8时，先明确晶圆和所需工艺，再对应模块与片盒形式，避免按某一张整机图推断全部功能。
TEL MARK 8涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 制造商 | Tokyo Electron |
| 型号写法 | MARK 8 / MARK-VIII |
| 工艺 | 光刻胶涂布及显影，按模块配置 |
| 平台形式 | 单Block与多Block等实机版本 |
| 已见晶圆版本 | 150、200mm设备记录，库存需确认 |
| 模块配套 | 涂胶、显影、热板、冷却及搬送 |
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