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TEL Episode™ UL以矩形双列相对布局组织300mm刻蚀，最多支持12腔，并扩大维护空间，传片和工艺模块结合传感器与高速控制。
Episode™ UL把工艺腔分布在矩形平台的两侧，形成两列相对布局，最多容纳12个工艺腔。这一结构把多腔容量、洁净室空间和配套区域一起纳入整机设计。
平台处理300 mm晶圆，产品类别包括介质及导体反应离子刻蚀。相应工艺腔承担不同材料任务，传片系统连接各模块。
维护与数据控制
与前代平台相比，Episode™ UL扩大维护操作空间，使模块维护和高腔数集成同时安排。传片及工艺单元设置传感器和高速控制系统，设备数据参与分析及控制。
12腔配置下，双列集群减少单位腔室所需空间。矩形布局、维护通道和智能控制共同构成这一代平台的主要产品特点。
TEL Episode™ UL核心信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 晶圆尺寸 | 300 mm |
| 平台布局 | 矩形集群，工艺腔双列相对布置 |
| 最大工艺腔数量 | 12个 |
| 工艺类别 | 介质、导体RIE |
| 控制设计 | 传感器、高速控制及数据分析背景 |
| 机械设计重点 | 多腔空间组织及维护便利性 |
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