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TEL Certas LEAGA™气相化学刻蚀机

TEL Certas LEAGA™气相化学刻蚀机

TEL Certas LEAGA™处理300mm晶圆,以无等离子体气相化学完成各向同性刻蚀,覆盖氧化物去除、接触前清洗及精确凹蚀,最多6个双片腔。

产品详情

Certas LEAGA™是300 mm气相化学刻蚀平台,不依赖等离子体,也不使用液体。它通过化学反应完成各向同性材料去除和界面清洗,避免液体处理中的水印问题。

主要工序包括硅接触形成前预清洗、氧化物去除与回刻、三维高深宽比结构中的选择性刻蚀,以及精确凹蚀。对不同SiO₂膜层的选择性和界面控制,是这款产品的技术重点。

双片工艺腔

平台可安装最多6个双片处理腔。工艺单元按任务配置,在同一主机上组织表面处理和选择性去除。

它与强调方向性图形转移的等离子RIE具有不同工艺定位,核心是无等离子体化学反应、各向同性处理和三维结构中的材料选择性。

TEL Certas LEAGA™核心信息

项目内容
晶圆尺寸300 mm
刻蚀方式无等离子体气相化学刻蚀
处理特点无液体;各向同性工艺
平台腔数范围1—6个
腔体设计双片处理
主要应用接触前清洗、氧化物回刻、选择性刻蚀及凹蚀
TEL Certas LEAGA™气相化学刻蚀设备

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