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CLEAN TRACK™ LITHIUS™支持模块化光刻胶处理，可按晶圆版本衔接曝光设备。涂胶、烘烤、冷却与显影共同组成工艺路径，二手机型适合已有LITHIUS配方的产线配套。
LITHIUS把分散的光刻胶处理步骤组织在同一轨道平台中。晶圆在涂布、温度处理和显影单元之间搬送，工艺顺序由配方安排，便于保持各步骤的时间衔接。
对于已有同型号工艺的生产线，完整模块组合比外观更能说明机台能力。200mm与300mm版本的晶圆承载和搬送分别对应，曝光机接口及软件版本也需要与现场条件一致。
我们提供二手TEL LITHIUS涂胶显影机，可按所需晶圆和工艺模块匹配。
TEL CLEAN TRACK™ LITHIUS™涂胶显影机核心信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 品牌 | Tokyo Electron（TEL） |
| 型号 | CLEAN TRACK™ LITHIUS™ |
| 平台晶圆规格 | 200、300mm版本 |
| 工艺位置 | 光刻胶涂布、热处理及曝光后显影 |
| 平台特点 | 工艺响应、短周期及网络化管理 |
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