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二手TEL Trias e CVD设备，围绕单片加工和模块化腔室组织沉积流程。了解Trias平台的工艺结构，具体膜种、晶圆规格和腔室组合按整机配置提供。
TEL Trias e以单片加工组织薄膜沉积，传送平台与工艺模块各自承担不同任务。晶圆先进入设备流转系统，再到达相应反应器，工艺顺序由模块组合及配方安排。
TEL Trias e核心数据
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 品牌 | TEL（东京电子） |
| 型号 | Trias e（triase） |
| 产品线 | Trias单片沉积平台 |
| 设备组织 | 晶圆传送单元与工艺模块集成 |
| 具体工艺配置 | 按整机腔室及供源组合对应 |
反应器决定膜层，平台衔接步骤
Trias产品线覆盖金属薄膜等沉积方向。对于具体整机，反应腔、前驱体输送及气路条件决定材料范围，中央传送则将这些模块组织为连贯流程。平台与反应模块的配合，比单独说明腔室数量更能体现设备的工作方式。
二手Trias e可围绕已有薄膜工艺对接，按腔室清单说明反应器、供源和附属单元。产品介绍保留整机的模块化特点，也便于客户理解不同配置之间的工艺差异。
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