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AG Heatpulse 8800快速退火炉按单片进腔,结合灯源加热、闭环温控和冷壁冷却。可选陶瓷屏蔽与ez-DTC直接热电偶控制,减弱背面辐射差异对测温的影响。
AG Heatpulse 8800按单片执行晶圆快速热处理,灯源、测温反馈及冷壁冷却共同构成温度控制过程。晶圆自动进入处理腔,在规定气氛中执行配方,完成后卸出。
热区之外,测温形式也是8800的配置特点
晶圆背面膜层不同,光学测温面对的辐射条件也会变化。8800平台提供过Ceramic Shield陶瓷屏蔽选项,屏蔽件位于晶圆下方,用来减弱灯辐射及背面发射率变化对测温的影响。
陶瓷屏蔽还可与ez-DTC直接热电偶控制组合。高温计、热电偶与屏蔽件的不同组合,构成这一平台的温控版本差异。
气氛管理选项
平台还有氮气幕与原位氧监测升级方向。氮气幕参与局部气氛管理,原位氧监测提供氧含量信息;对于需要关注残氧的配方,这些功能与工艺气路一起组成使用条件。


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