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ASM Eagle 10是150/200mm晶圆PECVD设备，双反应器分别控制工艺并支持并行处理。介绍硅基介质薄膜沉积、反应器结构和晶圆兼容范围，提供二手设备配置对接。
Eagle 10的双反应器布局，使两片晶圆能够分别在各自的工艺环境中处理。每个反应器保留独立的工艺控制，设备同时兼顾并行处理能力和单个反应器的参数管理，适合150mm及200mm晶圆的PECVD沉积环节。
ASM Eagle 10核心数据
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 品牌及型号 | ASM Eagle 10 |
| 工艺类型 | PECVD |
| 晶圆规格 | 150mm、200mm平台 |
| 反应器数量 | 2个 |
| 处理特点 | 并行处理、反应器独立工艺控制 |
| 平台膜种 | 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等介质薄膜 |
双反应器并行，工艺分别控制
与把多片晶圆放在同一大腔体内处理的方式相比，Eagle 10通过两个反应器组织生产。等离子体反应、薄膜生长与工艺重复性在各自的反应空间内管理，使设备具有明确的模块分工。
Eagle平台的工艺范围包括氧化硅、氮化硅及氮氧化硅等介质薄膜，可涉及绝缘层、钝化层和相关工艺膜层。具体膜种由反应器及供源配置决定。我们提供二手ASM Eagle 10，该机型对应150/200mm平台，适合衔接相应尺寸晶圆的介质膜加工。
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