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ASML XT:400G采用365nm i-line光源，在300mm晶圆上进行步进扫描曝光。350nm公布分辨率、双工作台及晶圆测量配置，是该型号的主要特点，可承接相应非关键层制程。
晶圆完成搬送后，XT:400G先建立对准和表面高度信息，再进入曝光位置。设备在TWINSCAN平台上将这些动作分配到两个工作台，使测量准备与光刻处理交替进行。
5.5 kW汞灯提供365 nm i线光源，用于投射掩模图形，晶圆按曝光场布局完成扫描与步进。XT:400G处理300 mm晶圆，公布分辨率为350 nm，主要服务与这一成像能力相匹配的层次。
测量与曝光共同决定图形位置
对准信息用于安排图形在晶圆上的坐标，表面高度信息参与调焦和调平，扫描机构完成实际曝光。几部分协同工作，组成整片晶圆的图形转移过程。
平台将掩模更换、晶圆搬送和连续批次处理衔接起来。汞灯提供曝光能量，扫描机构完成场内成像，测量系统为位置和焦面控制提供信息。
XT:400G主要技术信息
| 项目 | 参数或配置 |
|---|---|
| 曝光光源 | i-line汞灯 |
| 波长 | 365 nm |
| 晶圆直径 | 300 mm |
| 曝光方式 | 步进扫描 |
| 公布分辨率 | 350 nm |
| 晶圆台 | TWINSCAN双工作台 |
| 光源额定功率 | 5.5 kW汞灯 |
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