二手ASML XT:1900Gi ArF浸没式光刻机

1.35 NA是XT:1900Gi的关键光学参数。它使用193 nm ArF激光，在投影镜头与晶圆之间引入浸没液，配合折反射式镜头形成高数值孔径曝光条件。

高NA与偏振照明

较高数值孔径与相应照明条件共同支持更细图形的成像。XT:1900Gi提供偏振照明，并结合瞳面能量分布控制，为不同掩模图形安排合适的成像条件。

设备面向300 mm晶圆，采用TWINSCAN双工作台。测量位置完成晶圆对准和表面信息采集，曝光位置进行浸没扫描，两个阶段交替衔接。

浸没部件参与整机运行

除激光源、镜头和工作台外，浸没液供给与回收也是设备组成。液体在镜头下方保持所需状态，随扫描过程运行，光刻胶及表面材料与浸没工艺配套。

剂量与掩模相关校正

平台成像工具包括DoseMapper剂量分布校正、掩模形状校正等，配合焦点监测处理晶圆面内的成像条件。具体机台的已装应用功能与相应软件配置一起列明。

XT:1900Gi浸没曝光核心数据

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