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ASML XT:450是365nm i-line光刻机，采用TWINSCAN双工作台与步进扫描曝光。原厂公布分辨率220nm，NA范围0.48～0.65，适合相应i-line层次的晶圆图形加工。
365 nm i线光源是XT:450的曝光基础。它保留TWINSCAN双工作台结构，通过步进扫描方式完成图形转移，原厂公布的分辨率为220 nm。
i-line也可以采用扫描曝光
XT:450在每个曝光场内执行同步扫描，再步进到下一场。i线光源与扫描机构配合，使单个曝光场由同步运动完成，曝光场之间再进行步进切换。
它的数值孔径可在0.48～0.65范围内调整，配合照明和光刻胶工艺安排对应的成像条件。对不需要KrF或ArF曝光的层次，XT:450可承担匹配其线宽及套刻要求的图形加工。
双工作台衔接测量与曝光
一侧建立下一片晶圆的对准及高度信息，另一侧进行当前晶圆曝光。测量完成后的工作台进入曝光位置，支撑逐片、逐场运行。
XT:450曝光参数
| 项目 | 参数或配置 |
|---|---|
| 曝光类别 | i-line |
| 波长 | 365 nm |
| 公布分辨率 | 220 nm |
| 数值孔径NA | 0.48～0.65 |
| 曝光方式 | 步进扫描 |
| 平台 | TWINSCAN双工作台 |
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