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二手ASML XT:1250i ArF浸没式光刻机

二手ASML XT:1250i ArF浸没式光刻机

XT:1250i采用193nm ArF浸没曝光,NA为0.85,原厂公布半节距分辨率70nm。ASML双工作台分开完成晶圆测量与湿式曝光,适合对应浸没工艺开发及图形转移。

产品详情

XT:1250i在投影镜头与晶圆之间引入浸没液,以193 nm ArF光源完成扫描曝光。它的NA为0.85,原厂公布半节距分辨率为70 nm。

0.85 NA下的浸没成像

液层与相应光学配置改善焦深和成像条件,为浸没图形转移提供工艺空间。光刻胶及晶圆表面材料与液体接触,其处理条件也参与曝光制程。

双工作台保留干式测量过程。晶圆先在测量位置完成对准和表面信息采集,再进入浸没曝光位置,使测量与曝光分别执行。

XT:1250i可用于300 mm晶圆的相应浸没工艺验证及开发。二手机台包括激光、光学、工作台和液体处理组成,浸没部件与曝光配方一起匹配使用。

XT:1250i核心参数

项目参数或配置
光源与波长ArF,193 nm
曝光类型浸没式扫描
数值孔径NA0.85
原厂公布半节距分辨率70 nm
晶圆应用平台300 mm
工作台TWINSCAN双工作台

ASML TWINSCAN XT1250i ArF浸没式光刻机

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