早上好 欢迎来到广东芯灵实业有限公司官方网站!

半导体设备与配件

二手ASML XT:1450 ArF干式光刻机

二手ASML XT:1450 ArF干式光刻机

XT:1450通过偏振照明和高NA投影光学执行193nm干式光刻,原厂公布分辨率57nm。ASML双工作台组织测量与扫描曝光,适合相应ArF干式制程的设备增配和替换。

产品详情

偏振照明是XT:1450的主要成像配置之一。AERIAL-P照明系统与高NA投影镜头配合,在193 nm干式条件下形成相应光场,原厂给出的分辨率指标为57 nm。

从掩模到晶圆的扫描曝光

掩模和晶圆同步扫描,光学系统缩小转移图形。完成一个曝光场后,晶圆台移动到下一位置,按工艺版图覆盖整片晶圆。

数值孔径可在0.65~0.93范围内调整,配合照明方式安排具体成像条件。对准、调平和镜头像差控制共同作用于图形位置与焦面,双工作台则将测量准备和曝光并行安排。

XT:1450的材料配套采用相应193 nm干式光刻胶,曝光过程没有镜头下方液层处理。激光源、照明、投影光学和测量部分配合,完成对应工艺层。

XT:1450 ArF干式曝光参数

项目参数或配置
曝光光源ArF准分子激光
波长193 nm
曝光方式干式,步进扫描
数值孔径NA0.65~0.93
公布分辨率57 nm
平台TWINSCAN双工作台
二手ASML XT1450 193nm ArF干式光刻机

联系我们

联系地址:深圳市宝安区新桥街道上寮社区上南上寮工业路18号汇聚新桥107创智园B座B201 咨询电话:17727597261 潘小姐 销售热线:0755-33177502电子邮箱:smt-sales3@gdxinling.cn

扫一扫 关注我们

扫码加微信咨询

CopyRight © 2023 广东芯灵实业有限公司 备案号:粤ICP备2021082600号技术支持:TiaoQingCMS
在线客服
联系方式

热线电话

0755-33177502

上班时间

周一到周五

在线客服