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LEXIA-EX通过不同溅射模块覆盖金属、氧化物和氮化物薄膜方向。了解300mm平台的超高真空结构、四阴极与双阴极配置，以及单层厚膜和多层膜沉积特点。
当薄膜结构既有多材料堆叠，也有单层厚膜需求时，溅射模块的选择会直接影响加工效率。LEXIA-EX围绕这一差异，配置四阴极mPVD及双大尺寸阴极dPVD两类模块方案。
TEL LEXIA™-EX核心数据
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 制造商及型号 | TEL LEXIA™-EX |
| 晶圆规格 | 300mm |
| 技术类别 | PVD溅射沉积 |
| 真空结构 | 超高真空腔体设计 |
| mPVD模块 | 4阴极 |
| dPVD模块 | 2个大尺寸阴极 |
| 工艺方向 | MTJ、金属、金属氧化物及氮化物等 |
300mm平台上的不同溅射任务
mPVD提供多阴极沉积组合，dPVD则通过大尺寸阴极扩展厚膜工艺方向。两类模块共同建立平台的材料适应能力，相关工艺可涉及金属、金属氧化物、氮化物和磁性隧道结。
超高真空腔体为界面与膜质管理提供基础，优化后的传送功能则配合工艺模块组织生产。LEXIA-EX关注的不只是靶材种类，还包括不同沉积步骤之间的协调。设备按完整型号提供，具体溅射源和腔室组合对应实际整机配置。
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