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RAINBOW 4520介质刻蚀机具有上下电极主动温控、非接触光学对准和终点监测，工艺涉及Contact、Via、Pad及Trench Mask。
4520把晶圆定位、真空传片和氧化物反应腔集中在同一设备中。单片经过拾放式传送和非接触光学对准后，进入低压腔体进行介质刻蚀。
工艺腔为平行板结构，间距可调，上下电极有主动温度控制。它们与气体化学配合，控制氧化物去除、侧壁反应及材料选择性。低聚合物生成体系是其技术资料列出的工艺特点之一。
接触孔和通孔之外，4520还具有沟槽掩膜、焊盘开口及平坦化刻蚀应用。单色仪终点检测为工艺结束提供光学信号，真空装载锁完成反应腔与装卸环节之间的隔离衔接。
LAM RAINBOW 4520核心信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 品牌 / 型号 | LAM / RAINBOW 4520 |
| 主要膜层 | 氧化物、介质膜 |
| 工艺结构 | 单片、真空装载锁、低压腔体 |
| 温度控制 | 上下电极主动温控 |
| 调节项目 | 可调电极间距 |
| 工艺监测 | 光学终点检测 |
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