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AMAT Precision 5000 Etch为单片多腔刻蚀平台，系列发展包括铝金属刻蚀及Mark II Etch MxP版本，以中央传片组织多个工艺模块。
Precision 5000 Etch是应用材料的单片多腔刻蚀产品，将晶圆传送和多个工艺模块集中在同一平台上。各工艺腔分别提供反应环境，平台负责组织晶圆在模块之间的流转。
P5000 Etch于1988年进入干法刻蚀产品线。1990年，应用材料在这一结构基础上推出单片铝刻蚀设备；1993年又推出Precision 5000 Mark II Etch MxP，延伸该系列的工艺能力。
模块化整机结构
平台名称描述整机架构，实际材料加工则由工艺腔决定。金属刻蚀配置承担相应薄膜去除，气路、真空和控制与工艺模块配套运行。
P5000还存在沉积设备。本页对应Etch刻蚀产品，其结构特点是单片处理、多腔组织以及平台与工艺模块之间的分工。
AMAT P5000核心信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 制造商 | Applied Materials |
| 平台全称 | Precision 5000 Etch |
| 处理结构 | 单片、多腔 |
| 本产品类别 | 干法刻蚀配置 |
| 已知产品方向 | 包括金属刻蚀版本 |
| 材料适用范围 | 由已安装工艺腔决定 |
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