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AMAT 9500XR大束流离子注入机,以批量圆盘方式完成晶圆掺杂。除高剂量处理外,xR平台还扩展了低剂量、低能量应用,离子源、分析束线与剂量控制共同执行注入配方。
9500XR以大束流批量注入为基础,同时扩展了9500平台的低剂量、低能量处理范围。它的用途不局限于单一高剂量工序,可以按实际离子源和束线配置承接不同掺杂任务。
离子束形成与批量处理
离子源产生带电粒子,经质量分析选择所需离子,再按设定能量送入端站。晶圆安装在圆盘承载位置,通过圆盘运动完成相应扫描,剂量控制部分记录束流累积量。
高剂量注入需要同时考虑束流输送与晶圆散热。端站的承载接触、冷却和扫描动作共同参与处理,尤其是在光刻胶覆盖晶圆的工序中,晶圆温度也是工艺条件的一部分。
二手9500XR可供已有同系列生产线增配。离子源、承载盘和气路配置关系到可运行的工艺,选型时需与原有配方一并核对。
AMAT 9500XR设备信息
| 项目 | 参数或结构信息 |
|---|---|
| 品牌 | Applied Materials / AMAT |
| 型号 | Precision Implant 9500xR |
| 束流类别 | 大束流 |
| 处理形式 | 批量圆盘式端站 |
| 应用特点 | 高剂量掺杂,并扩展低剂量、低能量处理范围 |
| 主要组成 | 离子源、分析束线、注入端站及剂量控制 |


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