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二手PVA TePla 300等离子去胶机

二手PVA TePla 300等离子去胶机

TePla 300去胶机覆盖光刻及刻蚀工序后的有机物清除,系列控制资料包含多步骤程序、自动恢复常压及真空待机功能。

产品详情

300的工艺程序按气体、功率和持续时间分段组织,针对光刻胶、有机掩膜与表面残留安排不同处理步骤。微波在低压腔体内激发气体,活性物种与工件表面发生反应。

运行顺序

操作人员打开前门装入工件,选择程序后启动处理。程序运行包含抽气、气体及微波处理,结束后自动恢复常压,再开门取出。Idle模式可在待机期间保持处理腔真空。

300系列控制资料中,程序容量为最多100组,每组最多5步;数值键和方向键完成参数输入,功能键负责选择及运行。实机照片中的显示和按键布局与这一操作形式相对应。

去胶之外,300系列还承担光刻和刻蚀后的表面清理,以及有机层和掩膜去除。不同任务通过程序中的气体组合、功率和时间加以区分。

PVA TePla TECHNICS 300核心信息

项目内容
品牌PVA TePla / TECHNICS
型号300
设备类别微波等离子去胶设备
主要工艺去胶、残胶处理、表面清洗
控制内容工艺气体、功率、时间等程序条件
实机布局前部观察窗腔门、右侧显示按键、下部机架
PVA TePla 300等离子去胶机侧板、机架与控制区

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