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PVA TePla 660封装前等离子清洗机供应

PVA TePla 660封装前等离子清洗机供应

660微波等离子清洗机覆盖固晶、焊线和包封前处理,无腔内射频电极,原厂系列支持100组配方及1至5个子程序。

产品详情

660把低压微波清洗、料盒装载和配方控制组合在一台设备中,主要处理芯片粘接、引线键合与包封之前的表面。工件可随料盒进入处理空间,清洗路径由料盒形式和装载机构决定。

原厂系列铝腔容积64 L,内部不设置射频电极。2.45 GHz微波从腔壁窗口输入,激发工艺气体后形成参与表面反应的活性物种;不开槽料盒对应下游处理,开槽料盒可配旋转平台。

控制与配方

标准系列有两路MFC气路,控制软件支持配方存储、系统检查、报警及设定值与实际值比较。最多100组配方、每组1—5个子程序的结构,使多阶段表面处理可以按既定顺序执行。显示屏与实体按键承担程序选择及操作,钥匙开关管理参数修改。

PVA TePla 660核心信息

项目内容
设备方向芯片装配前微波等离子清洗
原厂系列腔体铝制,64 L;400×400×400 mm
微波频率2.45 GHz
系列输出范围0—1000 W
系列工艺压力约0.2—2 mbar
标准气路2路MFC,系列另有扩展选项
系列配方容量最多100组,每组1—5个子程序

PVA TePla 660低压微波等离子清洗机

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