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TEL Episode™ 2 DMR薄膜沉积设备

TEL Episode™ 2 DMR薄膜沉积设备

Episode 2 DMR支持300mm晶圆,双片同步传送与DMR双片沉积模块相结合,开展ASFD TiN工艺。设备兼顾占地与处理效率,并集成运行数据采集和分析功能。

产品详情

两片晶圆同时传送、同时沉积,是Episode 2 DMR提高处理能力的主要方式。它将双片搬运平台与DMR反应模块配合,在300mm晶圆工艺中兼顾设备占地和加工节拍。

TEL Episode™ 2 DMR核心数据

项目内容
品牌及型号TEL Episode™ 2 DMR
晶圆规格300mm
搬运特点两片晶圆同步传送
DMR模块可同时处理两片晶圆
原厂模块数量范围1—4个
工艺ASFD TiN
工艺方向电容电极、字线TiN、阻挡金属层

双片模块与TiN薄膜控制

DMR即Duo Matched Reactor,可在同一模块内对两片晶圆执行沉积。平台的ASFD TiN工艺覆盖电容电极、字线及阻挡金属层等方向,需要在复杂结构中兼顾覆盖与膜层品质。

设备延续Trias e+ EX-II相关产品的工艺基础,并针对器件三维堆叠和高深宽比结构继续扩展。原厂列出的模块数量范围为1至4个,实际整机按安装组合确定。

Episode 2 DMR还提供设备运行数据采集与分析支持,使腔室状态和生产运行能够纳入同一管理流程。双片传送与DMR沉积协同,构成平台的主要结构特点。

TEL Episode 2 DMR薄膜沉积设备

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