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半导体设备与配件

东京电子Episode™ 1 CVD薄膜沉积设备

东京电子Episode™ 1 CVD薄膜沉积设备

Episode 1通过多模块集成安排晶圆预处理和薄膜沉积,可配置OPTCURE预清洗与ORTAS钛沉积模块。了解300mm平台的腔室组合、连续工艺和运行数据管理特点。

产品详情

Episode 1的特点是将多个工艺步骤集中到一套300mm晶圆传送平台上。最多8个模块可以承担不同任务,晶圆按顺序在相关模块间流转,完成预处理及后续薄膜沉积。

TEL Episode™ 1核心数据

项目内容
品牌型号TEL Episode™ 1
晶圆规格300mm
平台类型单片薄膜沉积
原厂模块数量范围1—8个
可配置模块OPTCURE™预清洗、ORTAS™钛沉积
数据功能设备数据采集、边缘数据处理及分析支持

从界面条件开始管理接触工艺

可选的OPTCURE负责原生氧化层去除,ORTAS负责钛沉积,两者的组合对应先进逻辑器件对接触界面的要求。预处理与沉积在同一平台衔接,有助于把表面状态与后续膜层作为一条流程管理。

除了反应模块,Episode 1还配备更丰富的设备数据收集和边缘分析功能。运行、可用性与能源等信息能够形成管理依据。模块数量与工艺组合可按实际流程匹配,使表面处理和薄膜生长连续衔接。

东京电子Episode 1 300mm多模块沉积平台

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