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SAMCO AD-230LP是带装载锁定室的等离子增强ALD设备,通过交替供源和表面反应控制薄膜生长,覆盖AlN、SiN及氧化物薄膜工艺方向,提供二手整机。
AD-230LP通过重复的供源、反应与清扫步骤逐步生长薄膜,并借助等离子体促进相关反应。它属于等离子增强原子层沉积设备,与连续供气生长薄膜的PECVD设备具有不同的工艺组织方式。
SAMCO AD-230LP核心数据
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 品牌型号 | SAMCO AD-230LP |
| 设备类别 | 等离子增强原子层沉积(PEALD) |
| 进出料结构 | 装载锁定式 |
| 反应特点 | 循环供源、表面自限制反应 |
| 原厂工艺方向 | AlN、SiN、AlOx、SiO₂ |
| 腔体设计方向 | 小型反应空间,缩短气体置换时间 |
循环沉积与等离子体反应
ALD利用表面反应逐步建立膜层,循环次数与工艺条件共同决定最终膜厚。AD-230LP将这一方式与等离子体结合,原厂工艺方向包括AlN、SiN等氮化物,以及AlOx、SiO₂等氧化物的低温沉积。
设备配有装载锁定室,主反应空间不必在每次进出料时直接经历完整的大气暴露。较小的反应空间有利于缩短前驱体和残余气体的置换时间,使循环步骤更紧凑。其工艺可涉及栅绝缘膜、表面钝化及相关保护膜层,具体材料对应相应供源配置。


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