ULVAC PECVD薄膜沉积设备系列

ULVAC的PECVD产品并不是一台固定规格的机器。紧凑型研发设备、生产型沉积平台和大面积基板设备，在腔体、传送方式和基板尺寸方面有不同安排，需要按具体系列理解。

ULVAC PECVD沉积设备系列核心数据

CC-200、CME与CMD的不同方向

CC-200强调紧凑布局及研发至小规模生产的适用性，通过载盘传送适配不同基板。CME提供生产型硅基薄膜沉积平台，部分型号对应方形基板；CMD则覆盖更大面积基板的PECVD需求。这些产品的处理尺寸包含方形基板规格，与圆形晶圆尺寸分别对应。

硅烷相关SiO₂、SiNx、SiON、非晶硅以及TEOS氧化硅，是ULVAC部分PECVD产品的工艺方向。不同系列的供气、加热、清洗方式各有配置，不宜将某个型号的数据通用于整个产品线。

我们提供二手ULVAC PECVD设备，可按具体型号对应晶圆或方形基板，以及相应沉积工艺。

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