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NanoSpec M6100提供膜厚分析、自动对焦及二维三维分布图，测量结果可进入数据库。薄膜程序和实际光谱共同参与分析，UV选件扩展超薄膜任务，适合工艺开发与膜厚监控。
NANOMETRICS M6100以膜层程序组织光谱测量，可处理薄膜和较厚膜层，并将多个测点结果绘制为晶圆分布图。
它的操作重点包括自动对焦、测量位置设置和模型匹配。软件显示实际与模型光谱，数据可保存到数据库，便于比较同一工艺不同批次的膜厚变化。
M6100平台的原厂范围为25～200000Å，紫外选件支持其中的超薄膜区间。选型时，应把所需膜材、膜层结构和是否需要UV测量一起落实到具体配置。
NANOMETRICS M6100膜厚测量仪核心信息
| 项目 | 参数或配置 |
|---|---|
| 制造商 | Nanometrics |
| 型号 | NanoSpec 6100 / M6100 |
| 测量技术 | 光谱反射膜厚分析 |
| 平台光谱范围 | 210～800nm，紫外能力涉及选件 |
| 原厂平台膜厚范围 | 25～200000Å（2.5nm～20μm），需匹配配置 |
| 紫外薄膜测量 | 25～500Å能力为UV选项 |
| 测量功能 | 自动对焦、2D/3D晶圆Mapping |
| 数据功能 | 膜层程序、数据库及实测/模型光谱显示 |
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