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VARIAN E500在E220基础上扩展高能注入，相应多价离子配置最高可达750keV。设备保留晶圆角度控制，并将束流纯度条件和能量污染联锁纳入注入过程。
E500在E220平台基础上扩展了高能注入能力。它仍承担中束流工序，同时可在相应多价离子配置下达到最高750keV，承接更宽能量范围的掺杂任务。
高能工艺怎样实现
多价离子带有更多电荷，在相同加速电压下可以获得更高能量。E500的最高能量需要与目标离子、电荷态及加速配置对应，具体工艺还要看该条件下的可用束流。
注入前检查束流纯度
E500可把束流纯度要求写入配方，在注入前检查束流条件，并由能量污染联锁监控运行。这些控制关系到到达晶圆的离子是否符合设定能量要求。
平台还保留晶圆倾角及方位控制。能量扩展、束流纯度和晶圆角度共同构成E500的主要产品特点。
E500能量扩展及束流控制信息
| 项目 | 产品信息 |
|---|---|
| 品牌与型号 | VARIAN E500 |
| 基本类别 | 中束流离子注入机 |
| 设计基础 | 由E220平台扩展 |
| 高能能力 | 相应多价离子配置下最高750keV |
| 晶圆处理 | 倾角及方位控制 |
| 束流纯度 | 可在配方中设定纯度条件 |
| 过程控制 | 能量污染联锁 |
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