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佳能FPA-5500iZ+ i-line光刻机，365nm汞灯光源，步进重复曝光，适合相应非关键层图形转移。所属系列采用4倍缩小投影及26×33mm曝光场，可与扫描式光刻设备分层配合。
非关键层的图形转移，不一定需要交给KrF或ArF设备。佳能FPA-5500iZ+属于i-line步进式光刻机，以365 nm光源完成对应层次的曝光，可在多层光刻流程中与激光扫描机分工使用。
一次完成一个曝光场，再步进到下一位置
它的曝光方式是步进重复：掩模图形通过缩小投影光学系统成像在光刻胶上，完成一个曝光场后，晶圆台移动到下一位置。这一方式与曝光场内连续扫描的光刻机不同。
FPA-5500iZ系列采用26×33 mm曝光场，便于与相应扫描式光刻设备安排分层曝光。晶圆上的不同层次可根据线宽、套刻和工艺要求，分配给不同曝光设备。
晶圆与掩模搬送
系列提供200 mm和300 mm晶圆版本，晶圆承载、搬送及对准部分按对应尺寸配套。掩模端有SMIF兼容搬送方案，将掩模保护与生产线传送相衔接。
FPA-5500iZ系列基础参数
| 项目 | 参数或配置 |
|---|---|
| 曝光光源 | i-line，365 nm |
| 曝光方式 | 步进重复曝光 |
| 投影缩小倍率 | 1:4 |
| 最大曝光场 | 26×33 mm |
| 晶圆版本 | 200 mm或300 mm，按系列版本选择 |
| 数值孔径 | 0.45～0.57，系列参考范围 |
| 掩模规格 | 6英寸，系列参考 |
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